高温可能会导致价值数百万美元的物镜系统 irreversibly damaged。那样的损失,将是整个项目无法承受的。

“秦师傅,您真是神了!这么多管子,您怎么一下子就摸到问题所在了?”一位年轻工程师,忍不住惊叹道。

秦师傅没有回答,只是默默地走到窗边,他望着窗外魔都夏日午后的阳光,深深地吸了一口。

他刚才,其实什么都没感觉到。他只是凭着数十年与精密机器打交道积累下来的,近乎本能的直觉,觉得那个位置不对劲。

这是一种无法用语言解释,甚至无法用仪器完全替代的经验和感觉。它来自于无数次成功与失败的积累,来自于对机器每一个细节的熟悉和敬畏。

他知道,随着拂晓三代机的研发进入深水区,类似的,意想不到的问题,还会层出不穷。

而他,和渊基地的每一位成员,都必须时刻保持这种如履薄冰,如临深渊的警惕和专注。

因为,他们正在打造的,不仅仅是一台机器。他们正在铸造的,是龙国高端制造业的未来和希望。

任何一丝一毫的疏忽,都可能让之前的努力,付诸东流。

他掐灭烟头,重新走回那台巨大的机器旁。新的冷却水管,已经被拿来,几位骨干正围在一起,准备进行更换。

“等等。”秦师傅叫住了他们。

他走到那根管子前,没有立刻动手,而是先仔细检查了管口的密封圈和接头螺纹,确认没有任何瑕疵后,才亲自上手,开始进行更换操作。

他的动作,不快,甚至有些缓慢,但每一个动作,都极其精准、稳定,没有一丝一毫的多余和晃动。

仿佛,他不是在更换一根水管,而是在进行一场神圣的仪式。

1998年8月,比利时,鲁汶。

IMEC(Interuniversity Microelectronics Centre,欧洲微电子研究中心)的洁净室里,一位年轻的华裔研究员,正盯着扫描电子显微镜下的一张光刻胶剖面图,眉头紧锁。

他叫李明辉,三年前从清华大学博士毕业后,来到IMEC从事先进光刻工艺的研究。

他是IMEC内部少数几位,对浸没式光刻技术有深入研究的研究员之一。

他面前的这张剖面图,来自一片刚刚经过曝光和显影的测试晶圆。曝光参数,是他根据一篇刚刚发表在《Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS》期刊上的、署名作者为“Liu Xin”等人的论文中的一

组实验数据,进行复现和优化后得出的。

这篇论文,是刘欣领导的朱雀算法团队,在计算光刻领域取得的一项重要成果的总结。

论文中提出了一种新颖的、基于稀疏表示的光学邻近效应修正算法,在理论上,可以将计算效率提升数倍,同时保持甚至提升修正精度。

这本是一篇纯粹的技术论文,没有透露任何具体的设备参数,和工艺流程细节。

但李明辉在读这篇论文时,却敏锐地捕捉到了一些不同寻常的信息。

论文中用于验证算法效果的测试图案的设计,以及某些仿真结果的边界条件,与他所了解的,ASML和尼康主流量产机型的技术特征,存在一些细微的,但无法忽略的差异。

这些差异,暗示着论文作者所使用的光刻系统,在某些关键性能指标上,可能已经达到了一个相当高的水平。

他本能地感觉到,这篇论文的背后,可能隐藏着一些重要的信息。

他没有声张,而是利用IMEC先进的实验设备,和自己的专业知识,对论文中的算法进行了复现和验证,并尝试将其应用于自己所熟悉的曝光条件下。

结果,令他大吃一惊,这种新算法,在特定条件下,效果出奇的好,甚至优于IMEC目前正在评估的一些商业软件。

他越想越觉得不对劲。他决定,将这篇论文,连同自己的复现实验结果和分析报告,发送给自己在宝岛积体电路制造公

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